食品加工設備の洗浄から、
半導体製造現場での
μmレベルの洗浄まで。
用途に合わせた製品ラインアップ。
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基板・ウエハー洗浄
2流体スプレーノズルを使用。基板表面の微細な間隙や凹凸に入り込み、高い打力でパーティクルを除去する。
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タンク洗浄
タンク洗浄用ノズルで各種タンク、槽の洗浄を行う。
洗浄対象に合わせ打力や噴霧流量の異なる製品を多数ラインアップ。 -
コンベヤ洗浄
1流体スプレーノズルや専用のクリーナーを使用。
CIP洗浄やメンテナンス作業を省力化できるモデルなど。 -
パストライザー
パストライザー（殺菌）の用途には1流体または2流体スプレーノズルを使用。対象容器に合わせた形・粒子の霧を選定。
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配管洗浄
専用スプレーノズルを配管（パイプ）内に挿入、または内部に固定して洗浄する。穴径や洗浄対象ごとにノズル選定が可能。
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高圧洗浄
1流体スプレーノズルを使って高圧の水流で洗浄する。
車輌、船舶、壁面、道路などのスケール除去に好適。
